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等离子制砣设备
等离子制砣设备
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一种等离子制砣用的挥发物收集装置的制作方法
2022年5月18日 — 一种等离子制砣用的挥发物收集装置的制作方法 1本公开涉及石英玻璃制造领域，具体涉及一种等离子制砣用的挥发物收集装置。 2高频等离子制砣工艺是采用2000度左右高频等离子火焰来融制石英砣 2022年7月27日 — 19国家知识产权局1实用新型专利10授权公告号45授权公告日1申请号9申请日01111173专利权人久智光电子材料科技有限公司地址河北省 一种等离子制砣用的挥发物收集装置 道客巴巴摘要： 本申请公开了一种等离子制砣用的挥发物收集装置。 包括：管道本体和排放装置，本申请设计有管道本体，其包括管道和第二管道，管道的一端与第二管道的一端 一种等离子制砣用的挥发物收集装置2008年11月17日 — 详细介绍了不同的天然、合成原料的加工工艺；电熔、气炼、合成、等离子、掺杂石英玻璃的不同熔制工艺；石英制品的热加工、冷加工及热处理方法；电弧法 图书详情 化学工业出版社有限公司 cip
一种低羟基高纯石英砣生产工艺 百度学术
2023年2月27日 — 一种低羟基高纯石英砣生产工艺 本发明涉及一种低羟基高纯石英砣生产工艺,该工艺基于一种制备系统来实现,制备系统包括给料系统,沉积炉,制砣机,高频加热系统, 2019年1月8日 — 气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。 各种高端石英制品还是通 石英砣的制备方法与流程 X技术网摘要： 本发明是关于一种石英玻璃制砣机,涉及机械设备领域,主要目的在于使制砣机能够制备出大尺寸的石英玻璃主要采用的技术方案为:石英玻璃制砣机,包括底座,升降座,升降机构 石英玻璃制砣机 百度学术等离子预处理 是对几乎所有类型材料（从塑料、金属和玻璃到纸板、纺织品和复合材料）进行 微细清洁 、 表面活化 和 等离子镀膜 的关键技术。 越来越多的传统工业预处理方法正在被等离子技术取代，以使加工工艺更为有 普思玛中国 Plasmatreat
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等离子设备生产厂家，等离子设备批发商 中国制造网
等离子设备生产厂家名录。中国制造网汇集专业的等离子设备生产厂家和批发制造商，方便您快速采购、批发等离子设备产品。内联设备是指用于在真空中自动进行内联处理的等离子体钟形设备。 在此，将会自动将带有待处理样品的产品支架引至腔室（钟罩）下方，并开始一个等离子工艺流程。Diener electronic 等离子体处理 Plasma2018年8月30日 — 光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料；半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低 【干货】做半导体用石英材料的10年经验总结工艺等离子旋转电极雾化制粉设备（AVIPREP），主要用于制备镍基高温合金粉末、钛合金粉末、不锈钢粉末及难熔金属粉末等，粉末产品综合性能优异，广泛应用于增材制造（3D打印）、热喷涂、粉末冶金、热等静压等制 等离子旋转电极雾化制粉设备 中航迈特
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等离子水洗设备吉姆西半导体
2024年2月22日 — 等离子水洗设备 商品类型：半导体尾气处理设备 产品描述：低氮氧化合物（NOx）等离子火炬可释放超过3000℃的高温更高效的处理易燃气体、有毒气体和PFCs气体,尤其是对PFCs气体的处理能力经过特殊设计的水淋系统，水溶性尾气处理时并且不产生水雾2024年9月24日 — 等离子活化（plasma activation）是一种利用等离子体处理技术对材料表面进行活化处理的方法。等离子体具有对材料表面活化或修饰官能团的作用，因为等离子体中包含自由电子、离子、原子、处于激发态的分子、自由基和紫外光等多种具有高度活性的粒子。等离子活化 深圳纳恩科技有限公司2021年9月18日 — 光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料;半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低石英制品挑选与检测问题(干货知识) 知乎本发明涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机是制备上述 石英玻璃制砣机的制作方法
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等离子体增强化学气相沉积 (Pecvd)：综合指南 Kintek Solution
了解有关等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 的所有知识，这是一种用于半导体行业的薄膜沉积技术。探索其原理、应用和优势。 915MHz MPCVD 金刚石机 915MHz MPCVD 金刚石机及其多晶有效生长，最大面积可达 8 英寸，单晶最大有效生长面积可达 5 英寸。等离子体外部沉积 (POD) 该工艺使用等离子体热源来“灼烧”化学前驱物，并在旋转靶材上沉积薄玻璃层。靶材可以是一个管件或一个实心棒，不一定是圆形。由于等离子体的高温性，这种工艺最适合生产掺氟熔融石英。二氧化硅中可达到的最大氟含量是 Heraeus Conamic 天然石英玻璃和合成熔融石英的制造2024年4月26日 — SX80超声波等离子喷涂设备介绍1、程序：等离子喷雾工作时，阴极和阳极（喷嘴）之间形成直接电弧，该电弧加热工作气体电离成高温等离子体，然后等离子体从喷嘴喷出形成等离子火焰。粉末通过粉末进料气体输送到火焰中，然后熔化、加速，然后喷涂在基材上形成涂层。SX80 等离子喷涂设备等离子喷涂系列热喷涂设备产品 2020年3月17日 — 选取9张馆藏汉代古玉阴线痕迹，图文讲解砣工与手刻工的区别。汉代玉器常见阴刻线，最主要的工艺是砣制与手工刻划，针对这两种不同工具产生的不同痕迹，我们对比学习，力求熟练掌握辨伪技能，有助于提高收藏水平。古玉砣工与手刻工的辨析（高清大图，专业讲解）玉器
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石英玻璃制砣机 科创中国
2020年4月19日 — 摘要：本发明是关于一种石英玻璃制砣机，涉及机械设备领域 石英玻璃制砣机主要目的在于使制砣机能够制备出大尺寸的石英玻璃。 主要采用的技术方案为：石英玻璃制砣机，包括底座、升降座、升降机构和主轴。升降机构，设置在所述底座上，所述升降机构的输出端与所述升降座连接，以驱动所 2022年3月19日 — 光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料;半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低石英制品挑选与检测问题(干货知识) 知乎电弧等离子体金属纳米粉制备系统（生产型） 一、 设备主要功能及组成 1 该设备是用于批量制备纳米级金属粉体材料的生产型设备，可制备包括稀土材料在内的绝大多数金属材料，并且对原材料的形貌尺寸没有要求限制， 电弧等离子体金属纳米粉制备系统（生产型）2023年3月31日 — 包裹体、粒度分布与颗粒形状对产品的影响，梳理了电熔法、气炼法和等离子体熔制法等熔融石英玻璃制备工艺现状及改进措 施发展，提出了存在的问题及今后发展建议，为熔融石英玻璃产业的发展提供参考。关键词 熔融石英玻璃；制备工艺；高纯石英熔融石英玻璃制备工艺研究进展 cgs
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CVD制程工艺及设备介绍百度文库
2014年5月10日 — CVD制程工艺及设备介绍气体放电激光压缩电晕放电辉光放电电弧放电人为产生等离子体的主要方法射线辐照Plasma包含 neutral gas atoms ormolecules ions free radicals Electrons photons其中辉光放电 (Glow Discharge）所产生的等离子体 2024年7月8日 — 馗鼎纳米表示，由于等离子废气处理设备(plasma scrubber)中的电极设计及电源供应器，皆是馗鼎纳米自行研发技术，不仅效率高且低功耗，亦可外接自动加药机(进行废水预处理) ，由于设备体积小，易串接整合于In line 产线，并可处理全氟碳化合物等设备排放尾气，且能与前端制程设备连线、配合 馗鼎纳米等离子废气处理设备 有效减少半导体制程碳排及 2015年12月23日 — 9如权利要求 7 所述的石英玻璃制砣机，其特征在于，还包括 ： 直线导轨，竖直设置在所述传动箱内，所述直线导轨的内圈作为所述的导向孔。 3 CN A 说明书 1/8 页 石英玻璃制砣机 技术领域 [0001] 本发明涉及机械设备技术领域，特别是涉及一种石英玻璃制砣机[发明专利] 百度文库摘要： 本发明是关于一种石英玻璃制砣机,涉及机械设备领域,主要目的在于使制砣机能够制备出大尺寸的石英玻璃主要采用的技术方案为:石英玻璃制砣机,包括底座,升降座,升降机构和主轴升降机构,设置在所述底座上,所述升降机构的输出端与所述升降座连接,以驱动所述升降座升降;主轴,可转动地 石英玻璃制砣机 百度学术
润优新材料获数千万元天使+轮融资，专注高纯石英砂及石英
2024年2月8日 — 武义发布消息显示，浙江润优新材料年产4万吨高纯石英制品及半导体硅基新材料项目总用地294亩，总建筑面积316万平方米，购置等离子打砣机、焊接机、坩埚熔制炉等先进设备，采用先进生产工艺生产高纯石英制品及半导体硅基新材料。2023年8月28日 — 等离子体法制备导电炭黑的过程与装备研究进展 王为旺，黄云云，徐 瑛，洪若瑜 （福州大学石油化工学院，福建福州 ） 摘要：综述了热等离子体工艺与低温等离子体工艺制备炭黑的发展历程，认为热等离子体裂解甲烷制备导电炭黑具有转化率高、产物结构好等优势，但高温导致的设备负担 等离子体法制备导电炭黑的过程与装备研究进展 University of 个人邮箱 企业邮箱 在线客服登录企业邮箱mm263企业邮箱等离子雾化法PA（Plasma Atomization）最初是由加拿大某 公司首创的金属粉末制备技术。 采用对称安装在熔炼室顶端的离子体炬，形成超高温的等离子体焦点，温度甚至可以高达10000 K，专用送料装置将金属丝送入等 金属增材 ｜ 纳米等离子体雾化制备粉末装备技术工
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石英玻璃制砣机制造技术，cvd制石英玻璃专利技高网
2015年12月21日 — 【技术实现步骤摘要】 本技术涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。 技术介绍 石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。2018年8月2日 — 其目的是完整地将掩膜图形复制到硅片表面，贯穿整个晶圆制造的前后道制程。等离子 我国等离子体刻蚀设备 市场份额（亿元） 资料来源：公开资料整理，立鼎产业研究中心 ——在今天没有一个集成电路芯片能在缺乏等离子体刻蚀技术 我国半导体设备之等离子体刻蚀设备（Dry Etch）市场现状 2019年1月8日 — 二步法通过制成石英砣来二次加工成石英制品，这种方法的优点是生产工艺灵活。制砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。石英砣的制备方法与流程 X技术网图 等离子刻蚀设备中的陶瓷部件，来源：京瓷 在等离子环境中，陶瓷材料的选择取决于核心部件所处的工作环境以及对制程产品的品质要求，如耐等离子刻蚀性能、电性能、绝缘性等。 二、陶瓷在等离子刻蚀设备核心部件 的 应用 1、腔体盘点等离子刻蚀设备中的那些陶瓷零部件 艾邦半导体网
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等离子旋转电极雾化制粉设备郑州机械研究所有限公司
2024年9月23日 — 等离子旋转电极雾化制粉设备 等离子旋转电极雾化制粉设备可用于制取钛合金、高温合金等金属粉末，制取粉末具有粒度均匀、得粉率高、流动性好、无空心粉、含氧量低等优点，在军事及民用工业中发挥着重要作用。2023年11月21日 — 选用等离子清洗设备前要搞清楚待清洗工件特征，要清洗掉的沾污物是什么，待清洗工件在清洗过程中应避免什么，是高温、晶格损伤、静电损伤还是二次污染等，通过试验结果确认、选购满足不同工件对等离子清洗不同要求的设备。3 在封装生产中的应用等离子体清洗及其在电子封装中的应用中科光智CVD制程工艺及设备介绍 2014年05月10日 李广录 主要内容 1PECVD制程工艺介绍 2PECVD设备介绍 PECVD制程工艺介绍 1TFTLCD基本概念 2CVD工程目的及原理介绍 3PECVD设备及反应原理 4工艺参数及检查项目 TFTLCD基本概念 Thin Film Transistor •CVD制程工艺及设备介绍百度文库2020年4月4日 — 光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料；半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低半导体用石英材料知识
等离子焊接系统等离子焊机型号Fronius伏能士智能
在面对80 mm板厚工件需要高质量焊接效果时，等离子焊在焊接速度、熔深和无需焊前准备方面具有较大优势。通过改装现有的伏能士TIG焊接系统，即可获得等离子焊接系统。 伏能士, Fronius 是专业的焊接和充电设备供 2020年8月31日 — 等离子体控制技术行业上游设备对外依存度高，中国大 陆等离子体控制技术应用相关设备制造商需依靠进口供 应，加大中游应用设备制造商的研发成本。 在国家利好政策的推动下，中国等离子体控制技术应用 相关设备制造商在部分生产设备逐步实现了技术突 2019年 中国等离子体控制技术（PCT）行业概览2019年1月3日 — 2、等离子化学气相沉积工艺（PCVD） 等离子化学气相沉积工艺是指采用高纯SiCl4为原料，以高频等离子体火焰代替氢氧火焰气相合成石英玻璃。 与传统电熔工艺制备的石英玻璃统称为红外石英玻璃，国内 技术 一文了解光学合成石英玻璃的制备工艺及优缺 2023年9月12日 — 半导体工艺与设备 1、半导体工艺研究、梳理和探讨。 2、半导体设备应用、研发和进展。 3、建华高科半导体设备推广，包括：曝光机、探针台、匀胶机和切片机。 4、四十五所半导体设备推广，包括：湿化学设备、先进封装设备、电子元器件生产设备等。一文看懂离子注入工艺及其设备系统 电子工程专辑 EE
真空等离子表面处理机NEPE180深圳纳恩科技有限公司
2024年9月14日 — NEPE180真空等离子表面处理机，是一种用于材料表面预处理的一种工艺设备，它可以实现表面清洁、活化和改性、刻蚀等一系列工艺。通过高压电场和射频电源激励氩气，氧气等气体成为等离子态基团，等离子态基团有正离子、负离子、自由基和各种活性基团等，作用到产品表面，能清除表面原有的 2012年8月13日 — 七十年代石英玻璃形成行业；八十年代引进了电弧坩埚，等离子制砣 36引进等离子二步法工艺 北京605厂从法国引进二步法装备，等离子打砣机三台，无接触拉管设备，生产高质量石英 玻璃管，主要用于光纤包皮管。 98产量12吨，800万。 37合资 石英管生产工艺大全rtf 豆丁网2022年9月30日 — 二步法通过制成石英砣来二次加工成石英制品，这种方法的优点是生产工艺灵活。制砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。气炼石英砣生产工艺百度知道高频等离子体化学气相沉积工艺技术在化工、新材料制备等各方面得到越来越广泛的应用，作为一种洁净的生产工艺，国内外的科研工作者投入了大量的工作进行等离子体化学气相沉积工艺的研究和实验，在工艺设备和理论上进行了探索，取得了一定的成绩和石英玻璃等离子化学气相沉积法制备工艺百度文库
气炼石英砣生产流程百度知道
2023年5月20日 — 气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣。2、等离子制砣是利用等离子 体为热源，将原料熔化沉积制砣。 百度首页 商城 注册 登录 资讯 视频 图片 知道 文库 贴吧 采购 地图 更多 答案 我要提问 气炼 2024年5月17日 — SBI等离子焊接设备，在LNG 船的焊接领域应用广泛，性能稳定，焊接效率高，焊缝质量达标。 奥地利SBI参加2023德国埃森焊接切割展览会 德国埃森焊接切割展览会 (SCHWEISSEN SCHNEIDEN)，于2023年9月11日至9月15日在德国顺利召开 斯宾仪（上海）设备制造有限公司SBI等离子智能化焊接 2018年8月30日 — 光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料；半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低 【干货】做半导体用石英材料的10年经验总结工艺等离子旋转电极雾化制粉设备（AVIPREP），主要用于制备镍基高温合金粉末、钛合金粉末、不锈钢粉末及难熔金属粉末等，粉末产品综合性能优异，广泛应用于增材制造（3D打印）、热喷涂、粉末冶金、热等静压等制 等离子旋转电极雾化制粉设备 中航迈特
等离子水洗设备吉姆西半导体
2024年2月22日 — 等离子水洗设备 商品类型：半导体尾气处理设备 产品描述：低氮氧化合物（NOx）等离子火炬可释放超过3000℃的高温更高效的处理易燃气体、有毒气体和PFCs气体,尤其是对PFCs气体的处理能力经过特殊设计的水淋系统，水溶性尾气处理时并且不产生水雾2024年9月24日 — 等离子活化（plasma activation）是一种利用等离子体处理技术对材料表面进行活化处理的方法。等离子体具有对材料表面活化或修饰官能团的作用，因为等离子体中包含自由电子、离子、原子、处于激发态的分子、自由基和紫外光等多种具有高度活性的粒子。等离子活化 深圳纳恩科技有限公司2021年9月18日 — 光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料;半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低石英制品挑选与检测问题(干货知识) 知乎本发明涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机是制备上述 石英玻璃制砣机的制作方法
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等离子体增强化学气相沉积 (Pecvd)：综合指南 Kintek Solution
了解有关等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 的所有知识，这是一种用于半导体行业的薄膜沉积技术。探索其原理、应用和优势。 915MHz MPCVD 金刚石机 915MHz MPCVD 金刚石机及其多晶有效生长，最大面积可达 8 英寸，单晶最大有效生长面积可达 5 英寸。等离子体外部沉积 (POD) 该工艺使用等离子体热源来“灼烧”化学前驱物，并在旋转靶材上沉积薄玻璃层。靶材可以是一个管件或一个实心棒，不一定是圆形。由于等离子体的高温性，这种工艺最适合生产掺氟熔融石英。二氧化硅中可达到的最大氟含量是 Heraeus Conamic 天然石英玻璃和合成熔融石英的制造2024年4月26日 — SX80超声波等离子喷涂设备介绍1、程序：等离子喷雾工作时，阴极和阳极（喷嘴）之间形成直接电弧，该电弧加热工作气体电离成高温等离子体，然后等离子体从喷嘴喷出形成等离子火焰。粉末通过粉末进料气体输送到火焰中，然后熔化、加速，然后喷涂在基材上形成涂层。SX80 等离子喷涂设备等离子喷涂系列热喷涂设备产品 2020年3月17日 — 选取9张馆藏汉代古玉阴线痕迹，图文讲解砣工与手刻工的区别。汉代玉器常见阴刻线，最主要的工艺是砣制与手工刻划，针对这两种不同工具产生的不同痕迹，我们对比学习，力求熟练掌握辨伪技能，有助于提高收藏水平。古玉砣工与手刻工的辨析（高清大图，专业讲解）玉器